PIPS II 精密離子減薄儀

設備簡(jiǎn)介：

一代PIPS?離子減薄系統樹(shù)立了透射電鏡（TEM）制樣的行業(yè)標準已超20年，而全新一代PIPS II 精密離子減薄儀基于一代PIPS 有了根本性的升級。

PIPS II 精密離子減薄儀包含了 WhisperLok®，能對減薄樣品進(jìn)行準確定位。10英寸觸摸屏簡(jiǎn)單易用，提高對減薄區域的精度控制和減薄過(guò)程的可重復性。

配備的數碼變焦顯微鏡系統可以實(shí)時(shí)監測減薄過(guò)程，同時(shí)可將獲取的彩圖存儲于DM軟件中，用于與樣品在TEM中成像對比。

性能優(yōu)點(diǎn)：

• WhisperLok系統及X-Y可調樣品臺：可對樣品感興趣區域進(jìn)行對中重復減薄
• 低能量聚焦離子槍?zhuān)焊倪M(jìn)的低能量范圍的性能可用于FIB樣品的表面清掃
• 能量從 0.1 keV到 8 keV可調 : 低能范圍的性能提升可以減少非晶層
• 液氮冷臺：去除熱效應產(chǎn)生的樣品損傷
• 10英寸彩色觸摸屏控制：簡(jiǎn)單易用的控制圖形用戶(hù)界面
• 數碼變焦顯微鏡系統：實(shí)時(shí)監測減薄過(guò)程
• DM軟件存儲彩圖：可以使用同TEM和EELS數據相同的格式儲存光學(xué)顯微圖像

應用：

• 半導體
• 金屬（氧化物，合金）
• 陶瓷

技術(shù)規格：

訂貨編號：LR-200635

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